低溫恒溫循環器的特點及使用說明

低溫恒溫循環器又稱之為低溫恒溫反應浴。常應用于對半導體制造裝置發熱部的冷卻：單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。并且對激光裝置發熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等起到很大作用。

低溫恒溫循環器說明：

1.根據大空間制冷原理，采用全新改進蒸發器，降溫更迅速、溫度更均勻;

2.全新設計的專業電路，PID輸出，控溫更;

3.功能鍵均采用觸摸軟鍵;

4.溫度、時間數顯;

5.預約開機，延時關機;

6.具備超溫、差溫報警功能

7.采用風冷式全封閉壓縮機組，進口壓縮機，制冷量大;

8.可在工作槽內進行低溫實驗或將槽內冷液外引，冷卻機外實驗器;

低溫恒溫循環器主要特點

1.風冷式全封閉制冷壓縮機,降溫速度快。

2.微機智能控制,溫度溫度。

3.數顯分辨率0.1℃或0.01℃，具有溫度測量值偏差修正功能。

4.溫度超溫保護,自動切斷電源并報警。

5.制冷系統過熱、過流自動保護。